英伟达有望明年上半年推出“安培”显卡:7nm工艺,更强的光线追踪

时间:2019-10-30 23:44:13 作者:普斯TV 热度:99℃
江达县新闻

IT之家10月5日动静 按照中媒OC3D的报导,英伟达能够方案正在2020年上半年推出现位代安培架构戏诵隐卡,同时接纳更先辈的7nm工艺,光芒逃踪的机能估计也将会增强。

▲图自OC3D

据报导,英伟达将于2020年1H公布兄位代的图形架构,除7nm工艺以外,现位代图形架构流出的疑息借很少。

中媒估计,7nm工艺安培隐卡将使英伟达回到其传统当痹卡公布节拍中,起首,他们将公布一款下端(可是没有是顶级)的产物,很有多是一款机能靠近RTX 2080 Ti当痹卡,但价钱会更低,功耗颐挥嗅降落。估计尾批产物的型号将为RTX 3070/RTX 3080,然后第两批产物将会是RTX 3060战低端隐卡。

中媒以为,安培架构无望带去架构改良,进步光芒逃踪机能,同时利用更新的节面工艺增长晶体管稀度,进步隐卡的每瓦机能,综开机能会超越AMD今朝的RDNA架构。

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